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    1. 新聞資訊
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      三氟化氮(NF3)簡述

      • 分類:行業動態
      • 作者:
      • 來源:
      • 發布時間:2022-03-10
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      【概要描述】三氟化氮(NF3)的主要用途是氟化氫-氟化氣體高能化學激光器的钚源,h2-O2和F2之間反應能量的有效部分(約25%)可以通過激光輻射發射,HF-OF激光器是化學激光器中最有前途的激光器。

      三氟化氮(NF3)簡述

      【概要描述】三氟化氮(NF3)的主要用途是氟化氫-氟化氣體高能化學激光器的钚源,h2-O2和F2之間反應能量的有效部分(約25%)可以通過激光輻射發射,HF-OF激光器是化學激光器中最有前途的激光器。

      • 分類:行業動態
      • 作者:
      • 來源:
      • 發布時間:2022-03-10
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      詳情

        三氟化氮(NF3)的主要用途是氟化氫-氟化氣體高能化學激光器的钚源,h2-O2和F2之間反應能量的有效部分(約25%)可以通過激光輻射發射,HF-OF激光器是化學激光器中最有前途的激光器。三氟化氮是微電子工業中優秀的等離子蝕刻氣體,使用硅、氮化硅蝕刻、三氟化氮比四氟化碳、四氟化碳和氧的混合氣體具有更高的蝕刻速度和選擇性,表面沒有污染。特別是厚度小于1.5um的集成電路材料的蝕刻中,三氟化氮具有非常好的蝕刻速度和選擇性,在蝕刻物表面不留殘留物,非常好。隨著納米技術的發展和電子工業的大規模發展技術,需求量將日益增加。

      三氟化氮

        我國對三氟化氮的研究始于20世紀80年代,三氟化氮產業的發展大體分為三個階段,首次用于國防工業,主要是少量生產用的自用。上世紀末,隨著經濟的發展,對三氟化氮產業化的研究迅速發展,電子工業用三氟化氮相繼問世。第三階段是近年來電子工業的迅猛發展推動的。國內三氟化氮的生產線相繼生產,其制造水平已與國外發達國家水平相當。電子工業用氣體的特點是市長/市場需求急,發展速度快,技術難度高,因此,面對國際上三氟化氮產業的快速發展,與國內三氟化氮生產企業相比相對較弱。幸運的是,最近我國企業也取得了長足的發展。

        NF3主要生產方法

        目前三氟化氮工業化生產主要有兩條路線,一是合成法:在鎳劑反應器中加熱氟化氫,氟化物、氮、氨通過分布器直接對反應器產生氟化反應。二、電解法:在一定溫度下分解溶解的氟化氫,電解過程中陽極產生三氟化氮,陰極產生氫氣。我國三氟化氮生產廠家的生產方法是上述兩種方法。

        三氟化氮(NF3)的主要應用

        IC方面:在半導體工業中,作為氣體清洗劑的PFC對環境有害,因此近年來有被三氟化氮(NF3)取代的趨勢。為了了解更多的電子特長,微信gasgroup將NF3用作化學蒸汽沉積(CVD)箱清洗劑,可以減少約90%的污染物排放量,大大提高清潔速度,使清潔設備能力提高約30%。

        LCD側:NF3也可用作蝕刻劑,并用于LCD(液晶屏)加工。為此,近幾年NF3需求急劇增加,90年代中期全球年用量低于46T,2013年為5100噸。為了滿足日益增長的需求,世界各生產者正在積極擴大生產能力,預計每年增長約15%。但是三氟化氮(NF3)的GWP值達到10800.今后的發展可能會受到一定的限制。太陽能電池:NF3作為蝕刻和清潔氣體也在太陽能電池制造業中廣泛使用。


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